Ez a K&F Concept Nano-Klear sorozat tartalmaz egy fényképezőgép UV + polarizáló objektívszűrőt + objektívsapka készletet, 3db tisztító kendőt és egy szűrőtasakot, a fotósok által leggyakrabban használt elemeket. A prémium kategóriás japán anyagokból készült és 18 réteg penetrációt fokozó bevonattal megerősített fényképezőgép UV + polarizáló objektívszűrő…
Ez a K&F Concept Nano-Klear sorozat tartalmaz egy fényképezőgép UV + polarizáló objektívszűrőt + objektívsapka készletet, 3db tisztító kendőt és egy szűrőtasakot, a fotósok által leggyakrabban használt elemeket. A prémium kategóriás japán anyagokból készült és 18 réteg penetrációt fokozó bevonattal megerősített fényképezőgép UV + polarizáló objektívszűrő minimálisra csökkenti a felületén a tükröződést, és nincs hatással a képminőségre.


| Gyártó: | K&F Concept |
| Kategória: | Szűrők |
| Filter type | MCUV |
| Filter type | CPL |
| Filter type | MCUV+CPL |
| Formátum filter | 49mm |
Akciók és kedvezmények kizárólag előfizetőknek · Ingyenes audio- és videó-workshopok · Hírek és tippek a forgatások világából